ਹੋਮ › ਪੇਸ਼ੇ › Materials Engineers › Boise, ID
Boise, ID ਵਿੱਚ Materials Engineers: H-1B ਵੇਤਨ
ਇਸ ਪੇਸ਼ੇ ਲਈ Boise, ID ਵਿੱਚ ਕੰਮ ਦੀ ਥਾਂ ਵਾਲੀਆਂ 222 ਲੇਬਰ ਕੰਡੀਸ਼ਨ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ। ਮੱਧਮਾਨ ਦਿੱਤਾ ਗਿਆ ਬੇਸ ਵੇਤਨ $1,17,473; ਵਿਚਕਾਰਲਾ ਅੱਧ $1,01,988–$1,31,718।
ਅਰਜ਼ੀਆਂ (LCAs)222
ਮੱਧਮ ਦਿੱਤਾ ਗਿਆ ਵੇਤਨ$1,17,473
ਵੇਤਨ ਦਾ ਮੱਧ ਭਾਗ$1,01,988–$1,31,718
10ਵਾਂ–90ਵਾਂ ਪ੍ਰਤੀਸ਼ਤ$92,700–$1,47,000
ਵੇਤਨ ਪੱਧਰ ਅਨੁਸਾਰ
| ਵੇਤਨ ਪੱਧਰ | ਮੱਧਮਾਨ ਵੇਤਨ |
|---|---|
| ਪੱਧਰ I (ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ) | $94,998 |
| ਪੱਧਰ II (ਯੋਗ) | $1,04,987 |
| ਪੱਧਰ III (ਤਜਰਬੇਕਾਰ) | $1,20,000 |
| ਪੱਧਰ IV (ਪੂਰੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਸਮਰੱਥ) | $1,35,804 |
Department of Labor ਹਰ ਪੇਸ਼ੇ ਅਤੇ ਖੇਤਰ ਲਈ ਚਾਰ ਪ੍ਰਚਲਿਤ ਵੇਤਨ ਪੱਧਰ ਨਿਰਧਾਰਤ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਪੱਧਰ I (ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ) ਤੋਂ ਪੱਧਰ IV (ਪੂਰੀ ਯੋਗਤਾ) ਤੱਕ। ਨੌਕਰੀਦਾਤਾ ਉਹ ਪੱਧਰ ਚੁਣਦਾ ਹੈ ਜੋ ਨੌਕਰੀ ਦੀਆਂ ਲੋੜਾਂ ਨਾਲ ਮੇਲ ਖਾਂਦਾ ਹੈ।
ਨਿਯੋਗਤਾ
| ਨੌਕਰੀ ਦੇਣ ਵਾਲਾ | LCAs | ਮੱਧਮਾਨ ਵੇਤਨ |
|---|---|---|
| Micron Technology, Inc. | 162 | $1,19,995 |
| Micron Idaho Semiconductor Manufacturing (Triton) LLC | 29 | $1,10,000 |
| Applied Materials, Inc | 8 | $1,08,218 |
| Lam Research Corporation | 6 | $1,03,990 |
| Asm America Inc. | 5 | $93,100 |
| Tokyo Electron America, Inc. | 4 | $1,19,088 |
| KLA Corporation | 4 | $98,887 |
| Nova Measuring Instruments Inc. | 3 | $86,445 |
| Asml US, LP | 1 | $87,550 |
ਜੌਬ ਟਾਈਟਲ
- Semiconductor Process Engineer37
- Process Support Engineer8
- Field Process Engineer6
- Engineer - Cvd/diff Dram4
- Senior Semiconductor Process Engineer4
- Process Development Engineer4
- R&D Dry Etch Process Development Engineer3
- CMP Senior Process Engineer3
- Product Development Engineer3
- Snr Field Process Engineer I3
- Sr Engineer, Photo DRAM3
- Application Scientist2
- R&D Photolithography Process Development Engineer2
- Engineer-Dry Etch-DRAM/EM2
- Field Applications Engineer2
ਤਨਖਾਹ ਹਰ ਅਰਜ਼ੀ 'ਤੇ ਪੇਸ਼ ਕੀਤੀ ਗਈ ਵੇਤਨ ਦੀ ਹੇਠਲੀ ਸੀਮਾ ਹੈ, ਜਿਸਨੂੰ ਸਾਲਾਨਾ ਰਕਮ ਵਿੱਚ ਬਦਲਿਆ ਗਿਆ ਹੈ; ਅੰਕੜੇ ਸਿਰਫ਼ ਪ੍ਰਮਾਣਿਤ ਪੂਰੇ ਸਮੇਂ ਦੀਆਂ ਅਰਜ਼ੀਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹਨ। LCA ਵੀਜ਼ਾ ਮਨਜ਼ੂਰੀ ਨਹੀਂ ਹੈ ਅਤੇ ਇੱਕ LCA ਕਈ ਪਦਾਂ ਨੂੰ ਕਵਰ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਸਰੋਤ: U.S. Department of Labor, OFLC LCA Disclosure Data, ਵਿੱਤੀ ਸਾਲ 2023–2026 (ਸਭ ਤੋਂ ਨਵਾਂ ਫੈਸਲਾ 30 ਜੂਨ 2026)।